雜訊抑制濾波器指南

抗噪對策基礎 [第 4 課] 晶片鐵氧體珠

在本篇及後續篇章中,我們將探討常見的抗噪元件。首個要介紹的元件是晶片型鐵氧體珠。這些珠子是製成晶片形狀的鐵氧體珠電感器,支援表面貼裝(SMD)。

<鐵氧體珠是一種穿有一根引線的鐵氧體珠。>

圖1所示為帶引線型鐵氧體珠電感器的形狀範例。其結構相當簡單,此種形狀的設計是將引線穿過由鐵氧體構成的珠體。 此電感器並未像一般線圈那樣將引線纏繞其上,但當電流流經其引線時,鐵氧體珠內部便會產生磁通量。因此,鐵氧體珠便發揮了電感器的功能。 順帶一提,此處使用的鐵氧體是由高頻下損耗較高的材料製成,因此在高頻範圍內,電流的能量會以鐵氧體損耗的形式消耗,從而能有效吸收雜訊。

圖 1 鐵氧體珠電感器的形狀範例

<片式鐵氧體珠由層狀電感器結構組成。>

晶片狀鐵氧體珠是將這些鐵氧體珠電感器製成晶片而成的,圖 2 顯示了其典型結構。線圈圖案形成於鐵氧體坯料片層之間,並透過整合與燒結的製程,形成三維線圈結構。

圖 2 BLM 系列片狀鐵氧體珠的結構範例

透過將鐵氧體珠電感製成晶片,並在內部採用線圈結構,便能達到比僅有引線穿過珠體的引線型鐵氧體珠電感更高的阻抗。(實際上,部分晶片式鐵氧體珠僅有引線穿過珠體。) 此結構基本上與多層式片式電感器相同,但與電感器的區別在於,所使用的鐵氧體材料更適合用於抑制雜訊。

圖 3 顯示了片式鐵氧體珠的阻抗頻率特性範例。其基本原理如下:與電感器相同,阻抗會隨頻率上升而成比例增加,因此將這些鐵氧體珠在電路中串聯,即可發揮低通濾波器的功能。 對於一般電感器而言,阻抗(Z)值的主要特性是電抗分量(X)。另一方面,由於片式鐵氧體珠採用在高頻下損耗較高的鐵氧體材料,因此其高頻範圍內的主要特性則是電阻分量(R)。 電抗分量不會伴隨損耗,但電阻分量則會。這意味著,相較於一般電感器,片式鐵氧體珠在吸收噪聲能量方面具有更佳的特性,能提供更強的噪聲抑制效果。

圖 3 晶片鐵氧體珠的阻抗頻率特性範例

<可根據預定應用情境選擇適當的阻抗曲線。>

晶片鐵氧體珠向來是依據 100 MHz 頻率下的阻抗值進行標準化。然而,市面上仍有許多阻抗值相同的產品可供選擇。此舉旨在讓使用者能夠根據需求,選擇阻抗曲線的銳利程度。

圖 4 顯示了阻抗曲線變化的範例。BLM18AG601SN1 與 BLM18BD601SN1 均為片式鐵氧體珠,其阻抗值在 100 MHz 時皆為 600 Ω, 但圖 4 顯示,BLM18BD601SN1 的阻抗曲線較為陡峭,而 BLM18AG601SN1 的曲線上升幅度則較為平緩。

圖 4 晶片鐵氧體珠的阻抗曲線差異

對於阻抗曲線平緩上升的類型,其阻抗會在較低的頻率水準開始增加,因此能夠從極低頻到高頻的寬頻帶範圍內抑制雜訊。然而,若訊號頻率相對較高,該頻率也可能遭到衰減。 相較之下,對於阻抗曲線陡升的類型,其阻抗僅在高頻範圍內增加,因此即使使用相對較高的訊號頻率,也能在不影響訊號的情況下抑制雜訊。 因此,在選用晶片鐵氧體珠時,務必將訊號頻率與待抑制的雜訊頻率納入考量。

<透過改變內部結構,改善了高頻下的阻抗。>

圖 3 顯示了片式鐵氧體珠的阻抗頻率特性,從該圖可知,400-500 MHz 的頻率範圍形成了一道分界線,在此處阻抗值開始下降。這是由於片式鐵氧體珠結構所造成的影響。 一般而言,電感器的阻抗會隨著頻率升高而持續增加。然而,如圖 5 所示,一般的片式鐵氧體珠內部存在某些區域,其繞組起點(入口)與繞組終點(出口)相距甚近。 在該區域內會發生靜電耦合(即彷彿存在極微小電容的狀態),因此高頻電流會通過該區域,而電感器的阻抗影響便相對較小。 在靜電耦合區域中,隨著頻率增加,電流往往更容易通過,因此頻率越高,視阻抗就越低。

圖 5 高頻下阻抗下降的原因

為了解決這個問題,必須改變繞組起點與終點位置相鄰的結構。圖 6 展示了一個片狀鐵氧體磁珠的範例,其內部結構已進行變更,以改善高頻特性。 一般而言,普通片狀鐵氧體磁珠的線圈圖案軸線是垂直的(所謂「垂直纏繞」),而高頻特性經過改良的片狀鐵氧體磁珠,其線圈圖案軸線則是水平的。 因此,透過在線圈的起點與終點之間留出一定距離,阻抗開始下降的頻率便會顯著提高。

圖 6 高頻特性經改良的片狀鐵氧體(水平繞組型)

晶片鐵氧體珠還有許多其他型號——例如,有些能承受大電流,有些則體積小巧——這種多樣性讓使用者能夠選擇最適合當前應用的型號。

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